氧阻聚,一般物質(zhì)的基態(tài)是單線態(tài),O2的穩(wěn)定態(tài)卻是三線態(tài),有兩個(gè)自旋方向相同的未成對(duì)電子。

應(yīng)用

涂料和油墨

機(jī)理

因此,它會(huì) 與自由基的聚合反應(yīng)競(jìng)爭(zhēng)而消耗自由基。由于絕大多數(shù)光固化工藝是在空氣環(huán)境中進(jìn)行的,并且主要的應(yīng) 用是涂料和油墨等具有極大表面/體積比的材料,所以 O2對(duì)光固化材料的自由基聚合反應(yīng)有不容忽視的阻聚作用。

在空氣中光固化時(shí),氧阻聚作用常常導(dǎo)致涂層底 層固化、表面未固化而發(fā)黏的情況。氧阻聚最終可導(dǎo) 致涂層表層出現(xiàn)大量羥基、羰基、過(guò)氧基等氧化性結(jié) 構(gòu),從而影響涂層的長(zhǎng)期穩(wěn)定性,甚至可能影響固化后漆膜的硬度、光澤度和抗劃傷性等性能。O2對(duì)紫外光固化涂層的阻聚作用主要體現(xiàn)在3個(gè)方面──猝滅、清除和氧化。

猝滅

處于基態(tài)的三線態(tài)O2可以作為猝滅劑與光活化了 的引發(fā)劑(以phi表示)反應(yīng)形成配合物,從而將激發(fā)三 線態(tài)的光引發(fā)劑猝滅。其過(guò)程表示如下:

Phi→(Phi)*→(Phi)*,(Phi)*+(O2)→Phi+(O2)

上述過(guò)程中,O2被激發(fā)至活潑的單線態(tài),光引發(fā) 劑則從激發(fā)態(tài)回到基態(tài),從而阻礙活性自由基的產(chǎn)生 大多數(shù)裂解型光引發(fā)劑的激發(fā)三線態(tài)壽命比較短,在 激發(fā)態(tài)引發(fā)劑與O2作用前,引發(fā)劑就已經(jīng)分解掉,所以O(shè)2與光引發(fā)劑發(fā)生雙分子猝滅作用的幾率相對(duì)較低,經(jīng)常可以忽略。

清除

基態(tài)的O2本質(zhì)上是雙自由基,因此對(duì)光引發(fā)過(guò) 程中產(chǎn)生的活性自由基有較強(qiáng)的加成活性[k 10 9 /(mol·s)],形成比較穩(wěn)定的過(guò)氧化自由基。此過(guò)程 速率較快,可與活性自由基對(duì)單體的加成反應(yīng)相競(jìng)爭(zhēng) 對(duì)聚合過(guò)程的阻礙作用最顯著。它可以分為以下2個(gè) 步驟:

(1)活性自由基引發(fā)單體聚合。 R·+CH2═CXY→R─CH2─C·XY+單體→聚合物

(2)活性自由基與O2加成。 R·+O2→R─O─O·(過(guò)氧自由基) R─CH2─C·XY+O2→R─CH2─CXY─O─O·

氧化

氧分子還可以把已經(jīng)與單體聚合的自由基氧化成 過(guò)氧化物,阻止單體的聚合。其作用機(jī)理如下:

氧阻聚

顯然,在這三種情況下,聚合速率都會(huì)下降,而且過(guò)氧化物的形成會(huì)影響固化涂層的性能。應(yīng)該注意的是,自由基R·與O2的反應(yīng)速率常數(shù)比其與單體分子的反應(yīng)速率常數(shù)大10 4 ~10 5倍,所以即使涂層中只存在微量的氧,也不能忽視R·與O2反應(yīng)時(shí)生成的過(guò)氧化自由基ROO·。由于ROO·非常穩(wěn)定,沒(méi)有引發(fā)聚合反 應(yīng)的能力,O2的存在消耗了活性自由基R·,使反應(yīng)聚合速率下降,并使其顯示出誘導(dǎo)期。所以O(shè)2是常溫下光固化體系自由基聚合的阻聚劑。

抗氧阻聚方法

氧阻聚對(duì)UV固化過(guò)程危害很大,尤其在涂膜厚度較薄時(shí)。油性有機(jī)體系中氧的濃度通常小于或等于 2×10 ?3 mol/L,不僅配方體系中溶解的氧分子阻礙聚合,在光引發(fā)過(guò)程中,隨著固化體系中氧分子的消耗,涂層表面空氣中的氧也可以迅速擴(kuò)散至固化涂層內(nèi),繼續(xù)阻礙聚合。體系中原溶解的氧濃度很低,較容易消耗掉。對(duì)于封閉體系,初級(jí)活性自由基消耗溶解氧 的過(guò)程基本相當(dāng)于聚合誘導(dǎo)期。相對(duì)而言,自外界不斷擴(kuò)散至涂層內(nèi)部的氧才是阻礙聚合的主要原因。氧阻聚也最容易發(fā)生在涂層的淺表層或整個(gè)較薄涂層內(nèi),因?yàn)檫@些區(qū)域內(nèi),環(huán)境中的氧分子擴(kuò)散更容易些。

改變反應(yīng)機(jī)理

光固化分為自由基聚合和陽(yáng)離子聚合兩種反應(yīng)機(jī)理。O2是雙自由基結(jié)構(gòu),對(duì)陽(yáng)離子聚合不敏感,只抑制自由基聚合。因此,可以通過(guò)開(kāi)發(fā)陽(yáng)離子聚合機(jī)理的反應(yīng)體系來(lái)消除光固化反應(yīng)的氧阻聚。自20世紀(jì)70年代中后期,國(guó)外陸續(xù)報(bào)道了多種鎓鹽陽(yáng)離子光敏引發(fā)劑,包括二芳基碘鎓鹽系、硫鎓 鹽系、磷鎓鹽系以及偶氮鹽等。在20世紀(jì)80年代末期,出現(xiàn)了以陽(yáng)離子機(jī)理固化成膜的非丙烯酸酯預(yù)聚物和以鎓鹽為代表的陽(yáng)離子引發(fā)劑。

在深入研究了鎓鹽的引發(fā)行為,比較了它們的光引發(fā)效率。結(jié)果發(fā)現(xiàn),有效的鎓鹽有硫鎓鹽、碘鎓鹽、氮鎓鹽及芳茂鐵鹽等,親核陰離子有4 BF ? 、6 PF ? 、6 SbF ? 、6 AsF ? 等,其活性大 小為 4 BF ? < 6 PF ? < 6 AsF ? < 6 SbF ?。以碘鎓鹽和硫鎓鹽為例,這兩種鎓鹽在受光照時(shí),以類似的方式產(chǎn)生超強(qiáng)酸(質(zhì) 子酸或路易斯酸),同時(shí)也有自由基生成,其反應(yīng)表示 如下:

(1)二苯鎓鹽的光反應(yīng)

Ph2I + X ? →Ph·+PhI + X ? PhI + X ? +RH→PhI+R·+H + X ?

(2)三苯基硫鎓鹽的光反應(yīng)

Ph3S + X ? →[Ph2…PhI] + X ? [Ph2…PhI] + X ? →Ph─C6H4─S─Ph+H + X ? [Ph2…PhI] + X ? →Ph2S + X ? +Ph· Ph2S + X ? +RH→Ph2S+R·+H + X ?

式中,X ? 可以是 4 BF ? 、 6 PF ? 、 6 SbF ? 或 6 AsF ?。通過(guò)將自由基型和陽(yáng)離子型結(jié)合,可以得到具有 很好協(xié)同作用的混雜型光固化體系。

結(jié)合二苯甲酮類和二苯碘鎓鹽的結(jié)構(gòu)特點(diǎn),將能產(chǎn)生自由基的基團(tuán)和陽(yáng)離子引入到同一分子中,合成了自由基/陽(yáng)離子混雜型引發(fā)劑,不僅可以有效降低O2對(duì)聚合反應(yīng)的阻聚作用,而且表現(xiàn)出更高的引發(fā)效率。通過(guò)改進(jìn)光引發(fā)體系,抑制了表面氧阻聚現(xiàn)象,發(fā)現(xiàn):

(1)三乙醇胺和硫雜葸酮組合能有效地抑制表面 氧阻聚。

(2)米蚩酮與二苯甲酮組合在一起,就可以得到 一種最便宜、較有效的光引發(fā)體系。

(3)陽(yáng)離子型光引發(fā)劑四氟硼酸二苯基碘鎓鹽的增感體系也可以有效地抑制表面氧阻聚。

改變聚合反應(yīng)的速率

2.2.1提高引發(fā)劑濃度或增加輻射劑量

為了改變聚合反應(yīng)速率,提出增加光引發(fā)劑的濃度和采用強(qiáng)光照射的方法。這兩種方法都可以使光引發(fā)劑在很短的時(shí)間內(nèi)迅速產(chǎn)生大量的 活性自由基,使氧分子向體系中擴(kuò)散的時(shí)間大大降低,從而降低氧的干擾。提高引發(fā)劑濃度,使引發(fā)劑濃度最優(yōu)化,可大大緩解氧阻聚作用。針對(duì)這個(gè)問(wèn)題,可以選用幾種吸收波峰不同的引發(fā)劑,強(qiáng)吸收的可用來(lái) 抵消氧的作用,弱吸收的光線可進(jìn)入底層,使底層樹(shù) 脂聚合。在很多情況下,還可以通過(guò)增加輻射劑量,如增加UV燈的功率或數(shù)目,以提高輻射強(qiáng)度來(lái)減少 氧阻聚作用的影響。

2.2.2使用對(duì)氧敏感度低的預(yù)聚物和單體

為有效降低氧阻聚對(duì)光固化的影響,還可以選擇改性的固化樹(shù)脂,再加入消耗氧氣的單體或基團(tuán),如含烯丙基、醚鍵己胺類的單體。由于α–π共軛效應(yīng),氧原子奪取處在雙鍵旁亞甲基碳原子上的氫,使α–碳 原子生成自由基,而這個(gè)自由基由于共軛作用較穩(wěn)定,與空氣中的O2結(jié)合生成過(guò)氧化物,該過(guò)氧化物分解可 引起交聯(lián)。在聚氨酯中引入硫醇和烯烴官能團(tuán),得到的改性聚氨酯樹(shù)脂也不受空氣中O2的影響。其反應(yīng)機(jī)理如下:

HSRSH→HSRS·+H· HSRS·+nR′─CH═CH2→HSRS[CH2─CHR′]n

其中,R、R′為氨基甲酸酯。研究者在丙烯酸聚氨酯上引入氨基基團(tuán),實(shí)現(xiàn)了在空氣中直接進(jìn)行光固化??梢?jiàn),在預(yù)聚物合成中引入對(duì)氧低敏感的基團(tuán),對(duì)降低和消除氧阻聚作用是一種可行的方法。

2.2.3添加氧清除劑

在光固化體系中加入一種或幾種氧清除劑,可以緩解氧阻聚作用。氧清除劑從反應(yīng)機(jī)制上可分為3類。

2.2.3.1提供活性氫

添加氧清除劑,如叔胺、硫醇、膦類化合物等。這些化合物作為活潑的氫供體,可與過(guò)氧自由基迅速 反應(yīng),使活性自由基再生。同時(shí),過(guò)氧自由基奪氫生成烷基過(guò)氧化氫,并可進(jìn)一步生成烷氧自由基與羥基自由基。以叔胺為例,反應(yīng)如下:

ROO·+R′─CH2─NR2→ROOH+R′─C·H─NR2 ROOH→RO·+·OH

張紅明等[ 16]采用雙固化技術(shù)和將叔胺基團(tuán)引入光 固化低聚體中,有效地消除了涂料表層以及深層的氧阻聚效應(yīng),實(shí)現(xiàn)涂膜快速完成光固化過(guò)程。添加叔胺雖已成為自由基光固化配方中克服氧阻聚的重要手段,但含有胺的體系其固化產(chǎn)物容易產(chǎn)生黃變,而且體系的貯存穩(wěn)定性較差。

在光固化配方中加入受阻胺、受阻酚等除氧劑,實(shí)際上對(duì)改善光聚合并無(wú)幫助,有時(shí)反而起到阻聚作用。而其實(shí)際所起的作用應(yīng)理解為對(duì)高分子材料的長(zhǎng) 期光穩(wěn)定及熱穩(wěn)定化作用,即常說(shuō)的聚合物光穩(wěn)定劑。報(bào)道亞磷酸三乙酯和三苯基膦對(duì)己二醇二丙烯酸酯(HDDA)的光聚合具有明顯的抗氧效果,光 聚合表觀動(dòng)力學(xué)曲線與在氮?dú)獗Wo(hù)下聚合的結(jié)果相近。

2.2.3.2分解過(guò)氧化物自由基或氫過(guò)氧化物

(1)含硫化合物 含硫化合物主要包括硫代二丙酸酯、烷基(或芳基) 硫化物、烷基(或芳基)硫醇等。其反應(yīng)可表示如下:

(C18H37─CO─CH2─CH2)2S+ROOH→ C18H37─O─CO─CH2─CH3+RH+SO2

從上面的反應(yīng)式可以看出,在過(guò)氧化物被分解的 同時(shí),涂層中有SO2氣體生成,可能會(huì)使涂層表面產(chǎn) 生斑點(diǎn)或縮孔。

(2)亞磷化合物

亞磷化合物是有效的O2清除劑,其抗氧機(jī)理非常復(fù)雜。其中,一種機(jī)理提出亞磷酸酯將過(guò)氧化物還原 成醇:

P(OR′)3+ROOH→(R′O)3P═O+ROH 與此同時(shí),亞磷酸酯也參與了反應(yīng): 2P(OR′)3+ROO·→2(R′O)3P═O+R·

(3)硫磷復(fù)合體系。作為過(guò)氧化物分解劑,硫代磷酸類比硫代磷?;蛎丫哂懈玫目寡跣Ч?/p>

(4)硫醇復(fù)合體系。光加成聚合法屬于非丙烯酸體 系,主要是硫醇體系。它也可以克服氧阻聚問(wèn)題,其機(jī)理是:激發(fā)態(tài)的光引發(fā)劑奪取硫醇中的氫,產(chǎn)生硫醇自由基而引發(fā)單體固化。

2.2.3.3消耗材料中的溶解氧 解決氧阻聚的問(wèn)題還可以通過(guò)消除溶解擴(kuò)散到光固化材料中的氧來(lái)實(shí)現(xiàn),主要有以下幾種方法:

(1)采用I型光引發(fā)劑和II型光引發(fā)劑配合的光 引發(fā)劑體系。例如,Ciba公司的光引發(fā)劑Irgacure 500 是含有等物質(zhì)的量的Irgacure 184和二苯甲酮的混合光引發(fā)劑,它在空氣中有較好的使用效果。這可能是由于二苯甲酮的激發(fā)三線態(tài)能有效地促進(jìn)氫過(guò)氧化物(ROOH)的分解,產(chǎn)生的烷氧自由基 (RO·)和羥基自由基(OH·)都具有引發(fā)作用。而I型光引發(fā)劑光解產(chǎn)生的自由基與氧的反應(yīng)消耗了氧,使氧 對(duì)二苯甲酮激發(fā)三線態(tài)的猝滅作用受到抑制??梢?jiàn)兩 者有協(xié)同作用。

(2)Decker等人在UV固化材料中加入1,2–二苯 基苯并呋喃,有效地實(shí)現(xiàn)了在空氣中固化,而且與惰性氣體保護(hù)下的固化速率幾乎一樣。

(3)在體系內(nèi)加入增感染料亞甲基藍(lán)(MB),它能在光作用下形成激發(fā)的三線態(tài),而其三線態(tài)能量可傳遞給O2。氧氣成為激發(fā)的單線態(tài)氧,單線態(tài)氧可與接 受體生成過(guò)氧化物,從而消耗氧。

(4)將三苯基膦作為光引發(fā)劑用于引發(fā)自由基聚 合反應(yīng),三苯基膦可以定量地轉(zhuǎn)化為三苯基膦的氧化 物,在此過(guò)程中消耗了溶解氧:

2Ph3P+O2→2Ph3P═O

改變光固化工藝

2.3.1惰性氣體保護(hù)法在惰性條件下進(jìn)行紫外光照射,即用N2或其他惰性氣體(如氬)保護(hù)的方法,以取代固化層表面中的O2,再進(jìn)行UV固化。這種方法效果雖好,但是成本很高。研究發(fā)現(xiàn),可以用CO2代替N2趕 走體系中的氧,這種方法的優(yōu)點(diǎn)是CO2比N2價(jià)廉易得,而且密度比空氣大,易于保存。

CO2氣氛下,紫外光固化過(guò)程中樣品溫度、膜的厚度、樹(shù)脂黏度、光引發(fā)劑種類及用量、光源強(qiáng)度等因 素對(duì)氧阻聚的影響。他們發(fā)現(xiàn),與空氣環(huán)境下比較,UV固化涂膜具有更好的表面性能,更好的光澤和耐刮擦性能;與N2氣氛下比較發(fā)現(xiàn),CO2條件下比N2條件下雙鍵的轉(zhuǎn)化速率快,最終的轉(zhuǎn)化率也高。這種方法是目前最為有效的一種方法。

2.3.2浮蠟法。一種石蠟保護(hù)法,即在體系 中加入一定量的石蠟。因石蠟與有機(jī)樹(shù)脂體系具有不 相容性,所以在涂布施工和固化之間的這段時(shí)間內(nèi),石蠟會(huì)遷移到涂層的表面,形成一層很薄的薄膜覆蓋在涂層表面,起到阻礙外界氧分子向涂層擴(kuò)散的作用。石蠟的添加量必須適當(dāng),否則會(huì)造成涂膜的光澤度大 幅降低。此工藝路線繁瑣,速度較慢,不適合現(xiàn)代化高效生產(chǎn)的要求。

2.3.3覆膜法 當(dāng)體系涂覆完成后,在其上緊貼一層表面惰性的塑料薄膜(如聚乙烯薄膜)以起隔氧作用。經(jīng)UV光輻照固化后,揭去薄膜。當(dāng)然,這樣得到的固化涂層光澤度和光澤均勻性將受影響,更主要的是會(huì)使生產(chǎn)效率大大降低。

2.3.4強(qiáng)光輻照法 采用強(qiáng)光照射,光引發(fā)劑將同時(shí)大量分解,瞬 間產(chǎn)生大量活性自由基,活性自由基可對(duì)單體加成,也可與氧分子反應(yīng)。從兩反應(yīng)所占比例來(lái)講,用強(qiáng)光輻照,似乎前一反應(yīng)不占優(yōu)勢(shì),但引發(fā)聚合的絕對(duì)速率增加了。而且,一旦發(fā)生聚合,涂層黏度將迅速增 加,外界氧分子向高黏度體系的擴(kuò)散將大大受阻,這就有利于自由基聚合的快速進(jìn)行。

2.3.5分步照射法采用兩次輻照的方法,即先用短波長(zhǎng)(如254 nm) 光源輻照涂層,因?yàn)槎滩ㄩL(zhǎng)在有機(jī)涂層中穿透能力差,故光能在涂層的淺表層被吸收殆盡,使涂膜的淺表層先固化,對(duì)底層形成良好的阻氧膜。接著再用較長(zhǎng)波長(zhǎng)(如313 nm和366 nm)的光源進(jìn)行輻照引發(fā),完成聚合固化。

總結(jié)

通過(guò)采用物理方法,如惰性氣體保護(hù)、浮蠟、覆 膜、強(qiáng)光輻照、分步照射等改進(jìn)固化工藝,雖可避免氧阻聚對(duì)固化膜性能的影響,但操作過(guò)程比較麻煩,影響生產(chǎn)效率。因此,采用對(duì)氧低敏感的預(yù)聚物、活性單體和光引發(fā)劑等措施改進(jìn)光固化體系,將可能是今后UV固化領(lǐng)域的一個(gè)發(fā)展方向。因此,抗氧阻聚的研究可能有以下趨勢(shì):

(1)研發(fā)對(duì)消除氧阻聚更有效的光固化材料體系。

(2)研究解決光固化自由基反應(yīng)體系的厭氧性問(wèn) 題,目前已在預(yù)聚物、光引發(fā)劑等方面有較大進(jìn)展,還需從活性稀釋劑、抗氧阻聚助劑等多方面進(jìn)行系統(tǒng) 研究。

(3)陽(yáng)離子光固化體系雖不受氧阻聚干擾,但目 前適用于陽(yáng)離子光固化的樹(shù)脂和活性稀釋劑品種較 少,限制了該體系的發(fā)展,有待于進(jìn)一步研究合成適 合于陽(yáng)離子光固化體系的樹(shù)脂和活性稀釋劑。

(4)研究能夠更多地吸收UV或吸收更長(zhǎng)波長(zhǎng)的高效率陽(yáng)離子光引發(fā)劑。